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SemiChem 在線濃度監(jiān)測(cè)儀

Entegris在設(shè)計(jì)和生產(chǎn)用于半導(dǎo)體制造工藝中的化學(xué)機(jī)械平坦化（CMP）漿料和配方清潔化學(xué)品的高精度分析儀器的有豐富的經(jīng)驗(yàn)。我們的技術(shù)旨在確保復(fù)雜混合化學(xué)品的精確一致性，并在 CMP和配方清潔工藝中實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量。

我們的 SemiChem Advanced Process Monitor （SemiChem 在線濃度監(jiān)測(cè)儀）是集自動(dòng)取樣、分析和報(bào)告關(guān)鍵過(guò)程的定量化學(xué)濃度的化學(xué)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)。全面的在線化學(xué)監(jiān)測(cè)可實(shí)時(shí)校正漿料成分，從而穩(wěn)定控制工藝生產(chǎn)條件。該系統(tǒng)可提供分類(lèi)化學(xué)濃度數(shù)據(jù)。當(dāng)立即顯現(xiàn)時(shí)，可以快速糾正可能對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量產(chǎn)生負(fù)面影響的變化，有助于滿(mǎn)足更高產(chǎn)品產(chǎn)量的要求。

應(yīng)用領(lǐng)域

在全球范圍內(nèi)，我們安裝了近3000套SemiChem APM系統(tǒng)，用于控制金屬 CMP 濃度。它是控制CMP過(guò)氧化物的可靠的中心工具，并被證明在微電子環(huán)境中的所有濕化學(xué)應(yīng)用中都具有較好的性能，包括：

·銅，鎢，阻擋層和金屬CMP

·制定清潔

·DSP+

·濕法蝕刻，氮化物蝕刻

·平底蝕刻，食人魚(yú)蝕刻

·高頻

·廢水

功能與特點(diǎn)

經(jīng)驗(yàn)證的標(biāo)準(zhǔn)電化學(xué)技術(shù)	提供行業(yè)精確的監(jiān)控，以保證過(guò)程化學(xué)成分和完整性
	提供化學(xué)濃度數(shù)據(jù)，使?jié){料/化學(xué)分配系統(tǒng)能夠提供準(zhǔn)確的化學(xué)濃度
在線的，接近實(shí)時(shí)檢測(cè)的系統(tǒng)	檢測(cè)揮發(fā)性化學(xué)物質(zhì)的工藝偏差，防止產(chǎn)品質(zhì)量損壞
	將實(shí)驗(yàn)室技術(shù)過(guò)渡到在線，實(shí)現(xiàn)快速準(zhǔn)確的在線控制
堅(jiān)固耐用的工業(yè)設(shè)計(jì)	維持至少8500小時(shí)平均工作時(shí)間
	可經(jīng)受?chē)?yán)峻的工業(yè)環(huán)境

規(guī)格

分析方法	電位測(cè)定法，標(biāo)準(zhǔn)加成法，光度測(cè)定法
電位測(cè)量的準(zhǔn)確性*	顯示值的±0.2%
標(biāo)準(zhǔn)添加的準(zhǔn)確性*	顯示值的±2.0%
電位測(cè)量精度*	±0.2%相對(duì)誤差
標(biāo)準(zhǔn)添加精度*	±2.0%相對(duì)誤差
測(cè)量時(shí)間	>5分鐘/次（取決于應(yīng)用程序）
校準(zhǔn)間隔	啟動(dòng)時(shí)**
樣品消耗	<5 ml="">
進(jìn)樣量	0.05-5 mL（取決于應(yīng)用）
進(jìn)樣溫度	最高93°C（200°F）
耗水量	<1000 ml="">
樣品進(jìn)樣/排樣	<207 kpa="">
樣品進(jìn)樣/排樣	1/4" OD擴(kuò)口接頭，1" FPT安全殼聯(lián)軸器
去離子水	138至276 kPa（20至40 psi）
	2.0升/分鐘
	外徑 1/4" 擴(kuò)口接頭
CDA	414-552 kPa（60-80 psi）
CDA	1/4" 外徑快速接頭
排水	工藝：3/4“NPT重力排水管機(jī)柜：1/2“NPT重力
電源	110/220 VAC，50/60 Hz，1/0.5 A現(xiàn)場(chǎng)可切換
廢氣	外徑1 7/8" @ 17 CFM